产品货号:
SY0393
中文名称:
His标签蛋白高速纯化树脂
英文名称:
Hisar Ni-NTA Agarose Resin 6FF
产品规格:
10ml|50ml|100ml
发货周期:
1~3天
产品价格:
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Hisar Ni-NTA Agarose Resin 6FF以高度交联的6%琼脂糖凝胶为基质,通过化学方法偶联四配位的氮川三乙酸(NTA)为配体,螯合镍离子(Ni2+)后,形成非常稳定的八面体结构,镍离子处于八面体的中心,这样的结构可保护镍离子免受小分子的进攻,更加稳定,可以耐受一定浓度的还原剂、变性剂或耦合剂等苛刻条件。此外,因其基质的耐压性(可耐受最高0.3 MPa的压力),该产品可以用于工业大规模蛋白的纯化,可在相对较高的流速下,实现对目的蛋白的纯化。
基质 | 高度交联的6%琼脂糖凝胶 |
粒径 | 45~165μm |
载量 | >40mg 6×His-tagged protein/mL基质 |
耐压 | 0.3 MPa,3 bar |
储存缓冲液 | 含20%乙醇的1×PBS |
组分 | 10mL | 50mL | 100mL |
His标签蛋白高速纯化树脂 | 10mL | 50mL | 100mL |
说明书 | 1份 |
保存:2~8℃,有效期2年。
一、纯化流程
- 缓冲液的准备
缓冲液使用原理:低咪唑上样,高咪唑洗脱,或者高pH上样,低pH洗脱。Buffer在使用前最好用0.22μm或0.45μm滤膜过滤除菌。可溶性组氨酸标签蛋白纯化所需配方详见附表2。包涵体组氨酸标签蛋白纯化所需缓冲液及配方详见附表3。 - 样品准备
- 细菌表达的蛋白(本说明以细菌表达的蛋白纯化为例)
- 挑取单菌落到含有适合抗性的LB培养基中,根据载体说明加入相应的诱导剂诱导相应的时间。
- 表达结束后,将培养液转至离心瓶,7000rpm,离心15min,收集菌体,然后加入1/10体积的裂解液(Lysis buffer)和PMSF(PMSF在破碎前加入,其终浓度为1mM),同时也可加入其他蛋白酶抑制剂,但不能影响目的蛋白与树脂的结合。
- 之后加入溶菌酶,使其工作浓度为1mg/mL。
注:如果表达的宿主细胞内含pLysS或pLysE,可以不加入溶菌酶。 - 将菌体沉淀悬浮起来(如果菌液浓度高,可考虑加入10μg/mL RNase A和5μg/mL DNase I),混匀,置于冰上超声破碎细胞,至菌液基本保持澄清。
- 收集上述澄清蛋白液至离心管中,10000rpm,4℃离心20~30min。取上清,置于冰上备用或-20℃保存。
- 挑取单菌落到含有适合抗性的LB培养基中,根据载体说明加入相应的诱导剂诱导相应的时间。
- 酵母、昆虫和哺乳细胞分泌表达的可溶性蛋白
将细胞培养液转移至离心瓶,5000rpm离心10min,收集上清。如上清中不含EDTA、组氨酸和还原剂等,即可直接上柱纯化;如含有EDTA、组氨酸和还原剂等物质,则需用1×PBS 4℃下透析后方可上柱。
注:对于大量体积的上清,需加入硫酸铵进行沉淀浓缩,之后经1×PBS 4℃下透析后上柱。 - 包涵体蛋白纯化(以细菌为例)
- 将培养液转移至离心瓶,7000rpm,离心15min,收集菌体去上清。
- 按照菌体:裂解液=1:10(w/v)的比例将菌体充分悬浮,混匀,冰浴超声破碎。
- 将破碎液转移至离心管,10000rpm,4℃离心20~30min,去上清。可重复步骤b和c一次。
- 按照菌体:裂解液(含8M尿素)=1:10(w/v)的比例将包涵体充分悬浮。
- 变性条件下纯化His标签蛋白纯化。
- 将培养液转移至离心瓶,7000rpm,离心15min,收集菌体去上清。
- 细菌表达的蛋白(本说明以细菌表达的蛋白纯化为例)
- 装柱
- 用去离子水冲洗层析柱底筛板与接头,确保柱底筛板上无气泡,关闭柱底出口,并在柱底部留出1-2cm的去离子水。
- 将树脂悬浮,小心地将浆液连续地倒入层析柱中。用玻璃棒沿着柱壁倒入浆液可减少气泡的产生。
- 如果使用储液器,应立即在层析柱和储液器中加满水,将进样分配器放置于浆液表面,连接至泵上,避免在分配器或进样管中产生气泡。
- 打开层析柱底部出口,开启泵,使其在设定的流速下进行。最初应让缓冲液缓慢流过层析柱,然后缓慢增加至最终流速,这样可避免液压对所形成柱床的冲击,也可以避免柱床形成的不均匀。如达不到推荐的压力或流速,可以用所用泵的最大流速,这样也可以达到一个较好的装填效果。当柱床高度稳定后,在最后的装柱流速下至少再上3倍柱体积的去离子水。标上柱床高度。注:在随后的色谱程序中,不要超过最大装柱流速的75%。
- 关闭泵,关闭层析柱出口。
- 如使用储液器,去除储液器,将分配器置于层析柱中。
- 将分配器推向柱子至标记的柱床高度处。允许装柱液进入分配器,锁紧分配器接头。
- 将装填好的层析柱连接至泵或色谱系统中,开始平衡。如需要可重新调整分配器。
- 用去离子水冲洗层析柱底筛板与接头,确保柱底筛板上无气泡,关闭柱底出口,并在柱底部留出1-2cm的去离子水。
- 样品纯化
装柱后,可用各种常规的中压色谱系统,以AKTA使用为例进行说明:- 将泵管道注满去离子水。去掉产品上塞,连接至色谱系统中,打开下出口,将纯化柱连接到色谱系统中,注意旋紧。
- 3~5倍柱体积去离子水冲洗纯化柱。
- 至少5倍柱体积的Lysis Buffer平衡色谱柱。1mL规格预装柱推荐流速为1mL/min,5mL预装柱推荐流速为5mL/min。
- 利用泵或注射器上样,收集流出液,以便SDS-PAGE检测蛋白结合情况。
注:若样品粘度增加,即使上样体积很少也会导致层析柱很大反压;上样量不要超过柱子的结合能力;大量样品体积也可能造成很大的反压,使得进样器更难使用。 - Wash Buffer平衡柱子,直到紫外吸收达到一个稳定的基线(一般至少10~15个柱体积)。
注:在样品和结合缓冲液中加入低浓度咪唑可以提高样品纯度。 - Elution Buffer一步法或梯度法进行洗脱。一步法洗脱中一般5倍柱体积洗脱液即可。梯度洗脱可以用一个小的梯度,例如20倍柱体积或更多来分离不同结合强度的蛋白质。
- 建议用更高浓度咪唑(如500mM)彻底清洗纯化柱上结合的杂蛋白。随后依次用3倍柱体积的Lysis Buffer和5倍柱体积的去离子水清洗树脂。5倍柱体积的20%乙醇平衡树脂,最后将树脂保存在20%乙醇的1×PBS中,置于4℃保存。
- 将泵管道注满去离子水。去掉产品上塞,连接至色谱系统中,打开下出口,将纯化柱连接到色谱系统中,注意旋紧。
- SDS-PAGE检测
将纯化过程中得到的样品(包括原始样品、流出组分、洗杂及洗脱组分等)利用SDS-PAGE进行检测,判定其纯化效果。
二、在位清洗
当填料使用过程中发现反压过高(>0.5 Mpa)或者填料上面出现明显的污染时,需对其进行在位清洗(Cleaning-in-Place,CIP)。在位清洗时,先把Ni2+脱掉,清洗结束后,将填料保存在20%乙醇中,后者重新挂Ni后再保存在20%乙醇中。建议按照下面操作去除填料上残留的污染物,如沉淀蛋白、疏水蛋白和脂蛋白等。
- 去除强疏水结合的蛋白,脂蛋白和脂类
使用30%异丙醇清洗5~10个柱体积,接触时间为15~20min可以去除此类污染物。之后再用去离子水清洗10倍柱体积。也可以选择使用含有去污剂的酸性或者碱性溶液清洗填料2倍柱体积。例如含有0.1~0.5%非离子去污剂的0.1M醋酸溶液,接触时间为1-2h。去污剂处理后,需用70%的乙醇清洗5倍柱体积,彻底去除去污剂。最后利用去离子水清洗10倍柱体积。 - 去除离子作用结合的蛋白
使用1.5M NaCl溶液接触10~15min,之后用去离子水清洗10倍柱体积。
三、填料再生
当填料使用过程中发现反压过高(>0.5 Mpa),填料上面出现明显的污染,或填料载量明显变低时,需要对其进行镍离子剥离及重新挂镍处理,即填料再生。按照下面操作流程进行:
- 使用5倍柱体积去离子水清洗填料;
- 使用5倍柱体积100mM EDTA(pH8.0)剥落镍离子;
- 使用10倍柱体积去离子水清洗填料;
- 使用0.5M NaOH清洗5倍柱体积,停留10~15min;
- 使用10倍柱体积去离子水清洗填料;
- 使用3~5倍柱体积100mM NiSO4再生挂镍;
- 去离子水清洗10倍柱体积。
- 填料再生后,可立即使用,也可保存在20%乙醇中,置于4℃备用。
附表1:可溶性His标签蛋白纯化所需缓冲液及配方
缓冲液名称 | 配方 | 配制1L溶液所需各种试剂量 |
Lysis Buffer (pH8.0) | 50mM NaH2PO4 300mM NaCl,10mM imidazole, NaOH调pH至8.0,0.22μm或0.45μm过滤除菌。 | NaH2PO4·2H2O 7.8g NaCl 17.54g Imidazole 0.68g |
Wash Buffer (pH8.0) | 50mM NaH2PO4 300mM NaCl,20mM imidazole, NaOH调pH至8.0,0.22μm或0.45μm过滤除菌。 | NaH2PO4·2H2O 7.8g NaCl 17.54g Imidazole 1.36g |
Elution Buffer(pH8.0) | 50mM NaH2PO4 300mM NaCl,250mM imidazole, NaOH调pH至8.0,0.22μm或0.45μm过滤除菌。 | NaH2PO4·2H2O 7.8g NaCl 17.54g Imidazole 17.0g |
附表2:包涵体His标签蛋白纯化所需缓冲液及配方
缓冲液名称 | 配方 | 配制1L溶液所需各种试剂量 |
Lysis Buffer (pH8.0) | 8M Urea,100mM NaH2PO4,100mM Tris·HCl盐酸溶液 调pH至8.0,0.22μm或0.45μm过滤除菌。 | Urea 480.5g NaH2PO4·2H2O 15.6g Tris·HCl 15.76g |
Wash Buffer (pH6.3) | 8M Urea,100mM NaH2PO4,100mM Tris·HCl盐酸溶液 调pH至6.3,0.22μm或0.45μm过滤除菌。 | Urea 480.5g NaH2PO4·2H2O 15.6g Tris·HCl 15.76g |
Elution Buffer(pH4.5) | 8M Urea,100mM NaH2PO4,100mM Tris·HCl盐酸溶液 调pH至4.5,0.22μm或0.45μm过滤除菌。 | Urea 480.5g NaH2PO4·2H2O 15.6g Tris·HCl 15.76g |
附表3:Hisar Ni-NTA Agarose Resin试剂耐受情况
试剂种类 | 浓度 |
还原剂 | 5mM DTE |
0.5~1mM DTT | |
20mM β-mercaptoethanol | |
5mM TCEP | |
10mM reduced glutathione | |
变性剂 | 8M urea |
6M Gua-HCl | |
去污剂 | 2% TritonTM X-100(nonionic) |
2% TweenTM20(nonionic) | |
2% NP-40(nonionic) | |
2% Cholate (anionic) | |
1% CHAPS (zwitterionic) | |
其他类 | 500mM imidazole |
20% ethanol | |
50% glycerol | |
100mM Na2SO4 | |
1.5M NaCl | |
1mM EDTA | |
60mM citrate | |
缓冲液 | 50mM sodium phosphate,pH7.4 |
100mM Tris-HCl,pH7.4 | |
100mM Tris-acetate,pH7.4 | |
100mM HEPES,pH7.4 | |
100mM MOPS,pH7.4 | |
100mM sodium acetate,pH7.4 |
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